光刻膠市場前景怎么樣？2021市場規模預測達19億美元(2)
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上海新陽（300236）今日公告，由上海芯刻微材料技術有限責任公司委托盛吉盛（寧波）半導體材料有限公司代理投標，成功中標，購得ASML XT 1900 Gi型二手光刻機一臺，該設備可用于研發分辨率達28nm的高端光刻膠。
3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期貨款購入該光刻機，剩余90%六個月內付清。后續公司將啟動設備的運輸及相關安裝調試等工作。
上海新陽表示，集成電路制造用ArF濕法光刻膠產品技術要求高、投資需求大，公司為加速集成電路制造用高端光刻膠全品類的國產化進程，減少上市公司業績壓力，通過參股子公司芯刻微進行Ar濕法光刻膠的研發，并與協議各方承諾未來通過向上市公司進行股權轉讓或技術轉讓等方式避免可能的同業競爭。
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